當前標簽:高真空光學多層鍍膜設備
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高真空光學多層鍍膜設備采用e型電子槍蒸發(fā)源,可鍍各種高熔點金屬和氧化物材料,可制備多種光學眼鏡片、電學膜、超硬膜及裝飾膜等,配有光學膜厚控制系統(tǒng),電控系統(tǒng)采用PLC控制,可實現(xiàn)手動、半自動和自動3種方式,是光學儀器、激光工業(yè)、眼鏡行業(yè)等必需