服務熱線：
13802853635
0758-2778828
服務熱線：
13802853635
0758-2778828
真空鍍膜的應用簡單理解為在真空環(huán)境中通過蒸發(fā)、濺射和隨后的冷凝在金屬、玻璃、陶瓷、半導體和塑料部件上涂覆金屬膜或涂層。與傳統(tǒng)涂布方法相比，真空涂布是一種干式涂布，其主要方法包括以下幾種:
真空蒸發(fā)。
其原理是在真空條件下，蒸發(fā)材料被蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接導向襯底，在襯底上沉積固體薄膜。
濺射鍍膜。
濺射鍍膜是在真空條件下將2000伏的高壓接到陰極上，激發(fā)輝光放電。帶正電荷的氬離子撞擊陰極噴出原子，濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜層。
離子鍍。
也就是干式螺桿真空泵廠家已經推出的真空離子鍍。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上發(fā)展起來的，因此兼具兩種技術特點。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(薄膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質或其反應物在離子轟擊下沉積在襯底表面。在成膜過程中，基材總是受到高能粒子的轟擊，非常干凈。
真空卷繞涂層。
真空卷繞鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上的連續(xù)鍍膜技術，以實現柔性基板的一些功能和裝飾性能。
以上四種類型屬于物理氣相沉積技術的應用(PVD)。
然后是化學氣相沉積(CVD)。薄膜是通過化學反應制成的。其原理是在一定溫度下，將含有成膜材料的反應氣體引入基底并被吸附，在基底上產生化學反應形成核，然后反應產物從基底表面分離并不斷擴散形成膜。
離子束沉積鍍膜結合了離子注入和氣相沉積鍍膜技術，是一種利用電離粒子作為氣相沉積材料，在相對較低的襯底溫度下形成特性良好的薄膜的技術。
