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真空鍍膜機(jī)工作原理

2019-05-22 11:40:18

在鍍膜領(lǐng)域,涂鍍后的薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此,在評價(jià)膜樣品的性能時(shí),需要在不同厚度下測試膜樣品的性能。在真空鍍膜的情況下,這通常需要多次樣品制備。然而,多次制備樣品存在兩個(gè)問題:首先,不同的生長樣品具有不同的儀器條件,因此影響膜樣品性能的因素不僅是厚度。其次,在真空涂層實(shí)驗(yàn)中需要再次對樣品進(jìn)行真空處理。獲取非常耗時(shí)。增加生產(chǎn)和測試成本。

真空鍍膜機(jī)被廣泛使用,涉及各個(gè)行業(yè),并受到每個(gè)人的廣泛喜愛。那么它的工作原理是什么?

 真空鍍膜設(shè)備主要是指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,包括多種類型,包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備,真空離子蒸發(fā),光學(xué)鍍膜機(jī),磁控濺射,MBE分子束外延, PLD激光濺射有多種噴涂方法。真空鍍膜的工作原理是薄膜在高溫下在工件表面蒸發(fā)并結(jié)晶。由于空氣將對蒸發(fā)的薄膜分子產(chǎn)生阻力,并引起碰撞,使晶體粗糙而晦暗,因此必須在高真空下使晶體細(xì)膩明亮。如果真空度不高,晶體將失去光澤,并且粘合力也非常差。早期的真空鍍膜依賴于蒸發(fā)器的自然散射,加上工作效率低和光澤差。現(xiàn)在添加中頻磁控濺射靶。磁控射擊靶在電場的作用下加速了膜體蒸發(fā)分子對靶材料的轟擊,濺射出大量靶原子,中性靶原子(或分子)沉積在膜上基材上的薄膜解決了過去無法通過自然蒸發(fā)處理的薄膜類型,例如鍍鈦和鍍鋯。


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