真空鍍膜生產(chǎn)線結構

2020-12-18 11:31:07

次

目前卷對卷真空鍍膜生產(chǎn)線(機)多為單室分室和多室結構，雖然這種生產(chǎn)設備結構簡單，價格低廉，生產(chǎn)效率高，生產(chǎn)能力亦可，但仍存在以下缺點：當鍍膜設備每一次完成一個鍍膜工序，必須將整個真空設備真空室放空，破壞真空，將鍍制好的底材取出，然后裝入新的底材卷，使其重新真空化，使其能耗增加，影響生產(chǎn)效率，成本增加。

真空鍍膜生產(chǎn)線結構

薄膜的制備是在真空條件下進行的，包括晶態(tài)下的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物薄膜，雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但真空鍍膜通常是通過物理方法沉積薄膜。有三種形式的真空鍍膜，即蒸發(fā)式、濺射式和離子式。真空膜的多功能性也決定了它的應用場合十分豐富?？偟膩碚f，真空鍍膜的主要作用是使鍍膜表面具有很高的金屬光澤和鏡面效果，使鍍膜材料具有卓越的阻隔性，提供優(yōu)良的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是基于真空技術，采用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的新工藝.簡而言之，將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射，使之凝固并沉積在涂覆物(稱為基體，基片)上的方法，即真空鍍膜。