真空鍍膜機(jī)工作原理

空心陰極離子鍍?cè)?/span>

在本底真空為高真空的條件下，由陰極中通入氬器氣（1-10-2）在陰極與輔助陽極之間加上引弧電壓，使氬氣發(fā)生輝光放電，在空心陰極內(nèi)產(chǎn)生低壓等離子體放電，陰極溫度升高到2300-2400K時(shí)，由冷陰極放電轉(zhuǎn)為熱陰極放電，開始熱電子發(fā)射，放電轉(zhuǎn)為穩(wěn)定狀態(tài)。通入反應(yīng)氣體，可以制化合膜。

2.測控濺射工作原理

    先將真空室預(yù)抽至10-3Pa，然后通入氣體（如氬氣），氣壓為1-10 Pa時(shí)，給靶加負(fù)電壓，產(chǎn)生輝光放電，電子在電場正作用下加速飛向基片時(shí)，與氬原子碰撞，電離出Ar和另一個(gè)電子；轟擊靶材，由二次電子電離的越來越多，不斷轟擊靶材；磁場改變電子的運(yùn)動(dòng)方向，以電磁場束縛和延長電子的運(yùn)動(dòng)軌跡，從而 提高電子對(duì)工作氣體的電離幾率。

3.多弧離子鍍工作原理

其工作原理為冷陰極自持弧光放電，其物理基礎(chǔ)為場致發(fā)射。被鍍材料接陰極，真空室接陽極，真空室抽為高真空時(shí)，引發(fā)電極啟動(dòng)器，接觸拉開，此時(shí)，陰極與陽極之間形成穩(wěn)定的電弧放電，陰極表面布滿飛速游動(dòng)的陰極斑，部分離子對(duì)陰極斑的轟擊使其變成點(diǎn)蒸發(fā)源，以若干個(gè)電弧蒸發(fā)源為核心的為多弧離子鍍。

  4.電阻蒸發(fā)式鍍膜機(jī)

     膜材即要鍍的材料放于蒸發(fā)舟中，置于真空室中，抽到一定真空時(shí)，通過電阻加熱膜材，使其蒸發(fā)，當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源至基片的線性尺寸時(shí)，原子和分子從蒸發(fā)源中逸出后，到達(dá)基片形成膜。為了使膜厚均勻，可以利用電機(jī)帶動(dòng)基片旋轉(zhuǎn)，并用膜厚儀控制膜厚，制出優(yōu)質(zhì)膜。 

5.E型槍工作原理

   陰極燈絲加熱后發(fā)射具有初動(dòng)能的熱電子，這些熱電子在燈絲陰極與陽極之間的電場作用下加速并會(huì)聚成束狀。在電磁線圈的磁場中，電子束沿的方向偏轉(zhuǎn)，通過陰極時(shí)，電子的能量提高到10KV，通過陽極電子偏轉(zhuǎn)270度角而入射坩堝內(nèi)的膜材表面上，轟擊膜材使其蒸發(fā)。

6. PCVD鍍膜工作原理

 將被鍍件放在低壓輝光放電的陰極上，通入適當(dāng)氣體，在一定溫度下，利用化學(xué)反應(yīng)和相結(jié)離子合的過程，在工件表面獲得涂層。