真空鍍膜設(shè)備磁控濺射鍍膜設(shè)備其原理是在真空泵情況下，應(yīng)用電光充放電和電弧放電的原理。在金屬材料和非金屬材料的產(chǎn)品工件表面層上鍍制金黃的氮化鈦，灰黑色碳化鈦，七彩的氮氧化硅等。也可以鍍耐腐蝕膜（如AL,Cr不銹鋼板及TiN等）和耐磨損膜，膜層與底材融合堅(jiān)固，運(yùn)用磁控濺射加工工藝開展表層的鍍膜，可增強(qiáng)膜層的粘合力、可重復(fù)性、致相對(duì)密度、勻稱度等特性。合適于塑膠制品、瓷器、環(huán)氧樹脂、水晶制品產(chǎn)品等、藝術(shù)品、塑膠手機(jī)套、電子設(shè)備、裝飾建材等領(lǐng)域，具備不錯(cuò)的發(fā)展前途。

真空鍍膜設(shè)備膜層暗淡及變黑

(1)真空值小于0.67Pa。應(yīng)將真空值提升到0.13-0.4Pa。

(2)氬氣純凈度小于99．9％。應(yīng)換用純凈度為99．99％的氬氣。

(3)打氣系統(tǒng)軟件漏汽。應(yīng)查驗(yàn)打氣系統(tǒng)軟件，清除漏汽狀況。

(4)面漆未充足干固。盡可能增加面漆的干固時(shí)間。

(5)電鍍錫放供氣量很大。應(yīng)開展干躁和注漿加固解決

真空鍍膜設(shè)備膜層表層光澤度黯淡

(1)面漆干固欠佳或霉變。盡可能增加面漆的干固時(shí)間或拆換面漆。

(2)磁控濺射時(shí)間過(guò)長(zhǎng)。盡可能減少。

(3)磁控濺射涂膜速率太快。盡可能減少磁控濺射電流量或工作電壓

真空鍍膜設(shè)備膜層顏色不均勻

(1)面漆噴漆得不勻稱。應(yīng)改善面漆的施涂方式 。

(2)膜層過(guò)薄。盡可能提升磁控濺射速率或增加磁控濺射時(shí)間。

(3)工裝夾具設(shè)計(jì)不科學(xué)。應(yīng)改善工裝夾具設(shè)計(jì)。

(4)電鍍錫的立體幾何樣子太繁雜。盡可能提升電鍍錫的轉(zhuǎn)動(dòng)速率

真空鍍膜設(shè)備膜層變皺、開裂

(1)面漆噴漆得太厚。應(yīng)調(diào)節(jié)在7—lOtan薄厚范疇內(nèi)。

(2)建筑涂料的黏度太高。盡可能減少。

(3)揮發(fā)速率太快。盡可能緩減。

(4)膜層太厚。盡可能減少磁控濺射時(shí)間。

(5)電鍍錫溫度太高。盡可能減少對(duì)電鍍錫的升溫時(shí)間

真空鍍膜設(shè)備膜層外表有水漬、指紋識(shí)別及灰粒

(1)電鍍錫清理后未完全干躁。應(yīng)提升鍍前解決。

(2)電鍍錫表層濺上水滴或唾沫。應(yīng)提升文明行為生產(chǎn)制造，作業(yè)者應(yīng)帶口罩。

(3)涂面漆后手觸碰過(guò)電鍍錫，表層留有指紋識(shí)別。應(yīng)禁止拿手觸碰電鍍錫表層。

(4)建筑涂料中有細(xì)顆粒物。應(yīng)過(guò)慮建筑涂料或拆換建筑涂料。

(5)靜電除塵器無(wú)效或噴漆和干固自然環(huán)境中有顆粒物塵土。應(yīng)拆換除塵設(shè)備，并保證辦公環(huán)境的清理

真空鍍膜設(shè)備膜層粘合力欠佳

(1)電鍍錫去油脫油不完全。應(yīng)提升鍍前解決。

(2)真空泵房間內(nèi)不清理。應(yīng)清理真空系統(tǒng)。特別注意的是，在裝靶和拆靶的環(huán)節(jié)中，禁止拿手

或不干凈的物件與磁控源觸碰，以確保磁控源具備較高的潔凈度，這也是提升膜層結(jié)合性的重

要對(duì)策之一。

(3)工裝夾具不清理。應(yīng)清理工裝夾具。

(4)底建筑涂料采用不合理。應(yīng)拆換建筑涂料。

(5)磁控濺射加工工藝標(biāo)準(zhǔn)操縱不合理。應(yīng)改善磁控濺射加工工藝標(biāo)準(zhǔn)