與濕式鍍膜相比，真空鍍膜技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)：

(1)薄膜和基材選擇廣泛，薄膜厚度可度可以控制，以制造具有各種功能的功能性薄膜。

(2)在真空條件下制作薄膜，環(huán)境干凈，薄膜不易污染，可獲得致密性好、純度高、涂層均勻的薄膜。

(3)膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，膜牢固。

(4)干式既不產(chǎn)生廢液，也不污染環(huán)境。

真空涂層技術(shù)主要有真空蒸發(fā)涂層、真空濺射涂層、真空離子涂層、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等方法。除化學(xué)氣相沉積法外，其他方法具有以下共同特點(diǎn):

(1)各種涂層技術(shù)需要特定的真空環(huán)境，以確保制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中形成蒸汽分子的運(yùn)動(dòng)，避免大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，消除大氣中雜質(zhì)的不利影響。

(2)各種涂層技術(shù)都需要有蒸發(fā)源或靶子，才能將蒸發(fā)膜的材料轉(zhuǎn)化為氣體。隨著源或靶的不斷改進(jìn)，制膜材料的選擇范圍大大擴(kuò)大，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷還是有機(jī)物，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，也可以同時(shí)蒸鍍不同材料，得到多層膜。

(3)蒸發(fā)或?yàn)R射的制膜材料可以在與待鍍工件生成薄膜的過程中準(zhǔn)確測(cè)量和控制薄膜厚度，從而保證薄膜厚度的均勻性。

(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精 確控制涂層室內(nèi)殘留氣體的成分和質(zhì)量分?jǐn)?shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，最 大限度地降低氧氣質(zhì)量分?jǐn)?shù)，并充入惰性氣體，這是濕式涂層無法實(shí)現(xiàn)的。

(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn)，鍍膜過程可以連續(xù)進(jìn)行，從而大大提高產(chǎn)品產(chǎn)量，在生產(chǎn)過程中不污染環(huán)境。

(6)由于在真空條件下制作薄膜，薄膜純度高，密實(shí)性好，表面光亮，無需再加工，薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能優(yōu)于電鍍膜和化學(xué)膜。