磁控濺射 通過 在靶的陰極 表面 引入 磁場 并利用 磁場 抑制帶電粒子 來提高 濺射 速率 ,從而 提高 等離子體 密度 。
磁控濺射 鍍膜 工藝 在日常 操作 中有哪些 常見故障 ?
(2)氬氣 入口 小,檢查 氬氣 流量計 或增加 氬氣 入口 ;
(4)目標 的絕緣 程度 不夠 ,檢查 目標 是否 與地面 短路 。
在供水 的情況 下,對地電阻 應在50kω以上 ;
(5)磁場強度 不夠 ,檢查 永磁體 是否 消磁 ;
(6)真空度 太差 ,檢查 真空系統(tǒng) 。
(1)電壓 和電流 不穩(wěn)定,檢查 電源 ;
(2)真空室 壓力 不穩(wěn)定,檢查 氬氣 入口 和真空系統(tǒng) ;
(3)電纜故障 ,檢查 電纜 連接 是否 良好 。
(1)基板 表面 的清潔度 差,所以 要清潔 基板 表面 ;
(3)如果 襯底 溫度 過高或過低,檢查 溫度 控制系統(tǒng) 并校準 熱電偶 ;
(4)如果 真空室 中的壓力 過高,檢查 真空系統(tǒng) ;
(5)如果 濺射 功率 設置 不當 ,檢查 DC電源并設置 設置 功率 。
(1)如果 氬氣 吸入 量過大 或過小,觀察 輝光 顏色 ,判斷 氬氣 吸入 量是否 過大或過小,并相應 調(diào)整 氬氣 吸入 量;檢修 流量計 ;