本鍍膜設備是在優(yōu)質浮法玻璃上采用真空磁控濺射技術,中頻濺射技術,并配以國際先進的控制系統(tǒng),鍍制So,/ITO膜層,生產過程全部自動,連續(xù)進行。
立式磁控濺射鍍膜機主要組成部分:
1.真空室:不銹鋼制造,立式,外壁通冷卻水,內襯不銹鋼擋板。
2.真空系統(tǒng):蝸輪分子泵系統(tǒng)。
3.蒸發(fā)源:直流磁控濺靶和中頻磁控濺射靶分別固定在真空室兩側。
4.工件烘烤:采用不銹鋼管狀加熱器配合均熱板,確保基片加熱均勻性。
5.充氣系統(tǒng):氣體質量流量計和壓強自動控制儀。
6.電氣控制系統(tǒng):觸膜屏與PLC自動控制,人機對話方式來實現(xiàn)系統(tǒng)的數(shù)據(jù)顯示;操作與控制。
7.水冷系統(tǒng):真空室冷卻和陰極冷卻,有水壓保護開關的水流開關。
主要技術參數(shù):
總功率:350kw
極限真空壓力:7X10+pa
平均生產周期:100秒/架
直流磁控靶功率:20kw
中頻磁控靶功率:20kw
基片尺寸:750×1200(mm)