離線LOWE玻璃是指浮法玻璃離開生產(chǎn)線后的涂層生產(chǎn)。這種鍍膜方法通常采用真空磁控濺射技術，使靶材的顆粒在一定的真空條件和氣體氣氛下高速轟擊銀電極上的銀，在玻璃上產(chǎn)生一定厚度的銀膜，與其他靶膜一起形成特殊的薄膜。

適用范圍。

主要用于在大型平板玻璃上鍍制金屬單層膜、合金膜或金屬復合膜。鍍膜玻璃具有遮光、保溫、

節(jié)能裝修。

結構特征。

1.采用新型平面和柱狀磁控濺射打靶技術，提高鍍膜效果和效率。

2.配有高精度磁控電源，氣體流量和速度控制，自動化程度高，操作簡單，性能穩(wěn)定。

3.該膜均勻性好，附著力強，硬度高，耐腐蝕性好，可鍍各種顏色的膜。

4.真空室有傳統(tǒng)的垂直設計和高效的水平設計，以滿足不同層次客戶的需求。

相沉積法和溶膠-凝膠法。磁控濺射鍍膜玻璃可以利用磁控濺射技術設計制造多層復雜薄膜系統(tǒng)，可以在白色玻璃基板上鍍制各種顏色。該膜具有良好的耐腐蝕性和耐磨性，是目前生產(chǎn)和使用較多的產(chǎn)品之一。與磁控濺射鍍膜玻璃相比，真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質(zhì)量都有一定差距，已經(jīng)逐漸被真空濺射取代。化學氣相沉積(CVD)是指將反應氣體引入浮法玻璃生產(chǎn)線，在熱玻璃表面分解，均勻沉積在玻璃表面，形成鍍膜玻璃。