工模離子鍍膜機(jī)、柔性基材卷繞式鍍膜機(jī)、多功能復(fù)合鍍膜系統(tǒng)、射頻等離子炬及廢料焚燒系統(tǒng)、射頻等離子球化技術(shù)及設(shè)備、各類逆變開(kāi)關(guān)電源、專用電源、自控電源、真空測(cè)量?jī)x及其他非標(biāo)設(shè)備等。復(fù)合型離子鍍膜工藝與設(shè)備。本實(shí)用新型采用電弧、磁控濺射和離子源相結(jié)合的鍍膜工藝，具有膜層密度高，附著力強(qiáng)等特點(diǎn)。利用真空脫泡機(jī)和各種類型的配強(qiáng)、沉積速度快和能使基材表面合金化等特點(diǎn)，可以制備出各種金屬化合物特別是金屬氮化物薄膜。

根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域的不同，鍍膜機(jī)可分為電子槍蒸發(fā)式鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、等離子式鍍膜機(jī)、射頻鍍膜機(jī)等，但它們的結(jié)構(gòu)基本相同，以光學(xué)鍍膜機(jī)為例，其主要由三個(gè)部分組成：真空體-真空腔，輔助排氣系統(tǒng)(包括排氣系統(tǒng)，測(cè)量系統(tǒng))，蒸發(fā)系統(tǒng)(包括坩堝和旋轉(zhuǎn)控制系統(tǒng)，電子槍)，成膜控制系統(tǒng)。

負(fù)壓鍍膜機(jī)：是指在真空條件下，由金屬、半導(dǎo)體、絕緣體及其它單質(zhì)或化合物薄膜鍍制薄膜層。盡管化學(xué)氣相沉積也可采用減壓、低壓或等離子體等真空方法，但一般真空鍍指的是通過(guò)物理方法沉積薄膜。負(fù)壓式鍍膜機(jī)的鍍膜方式有蒸發(fā)式、濺射式和離子式三種。蒸鍍：通過(guò)加熱蒸發(fā)某些物質(zhì)，使其沉積在固體表面上的過(guò)程，叫做蒸鍍?，F(xiàn)在已經(jīng)成為一種常用的鍍膜技術(shù)。