隨著現(xiàn)代制造業(yè)的迅速發(fā)展，在我們周?chē)暮芏喈a(chǎn)品都已經(jīng)應(yīng)用于鍍膜技術(shù)。那今天廣東振華就和大家談?wù)勔环N較為常見(jiàn)的鍍膜工藝——真空磁控濺射膜。例如，如車(chē)窗玻璃、家用玻璃等，都采用真空磁控濺射鍍膜技術(shù)進(jìn)行鍍膜，以滿足一般玻璃所不具備的冷卻、減低輻射的效果。

磁控濺射法是一種涉及氣體等離子體的沉積技術(shù)，產(chǎn)生的等離子氣被限制在含有待沉積物質(zhì)的空間內(nèi)，而濺射靶的表面被等離子體中的高能離子所侵蝕，這些等離子體釋放的原子穿過(guò)真空環(huán)境，然后沉積在基片上，形成薄膜。

與蒸發(fā)鍍膜相比，真空磁控濺射鍍膜膜更為均勻，因此真空蒸發(fā)鍍膜所鍍出的膜厚度在中間通常會(huì)稍薄一些。

所以，由于我們不能控制真空蒸發(fā)鍍膜的膜層厚度，在真空磁控濺射鍍膜過(guò)程中，可以通過(guò)控制鍍膜時(shí)間的長(zhǎng)短來(lái)控制鍍膜厚度，所以真空蒸鍍不適合企業(yè)大規(guī)模生產(chǎn)。相反地，濺射鍍膜在這方面就具有更大的優(yōu)勢(shì)。

所以相對(duì)于蒸發(fā)鍍膜，真空磁控濺射鍍膜具有膜厚均勻、控制靈活等優(yōu)點(diǎn)，并具有以下特點(diǎn)：

磁控濺射鍍的膜層純度高，因而致密；

膜層材質(zhì)柔軟，膜層可以由大部分材料組成，包括普通合金，化合物等；

濺射膜的沉積率較低，且整體裝置較為復(fù)雜；

負(fù)壓濺射膜與作用基體之間有良好的粘結(jié)性能。