歡迎光臨肇慶市科潤真空設(shè)備有限公司網(wǎng)站!
真空鍍膜的目的是通過物理或化學(xué)的方法在目標(biāo)表面涂覆透明的電解質(zhì)膜或金屬膜,以改變目標(biāo)表面的反射和透射特性。涂布方式有真空涂布和光學(xué)涂布,但很多用戶不知道兩者的區(qū)別。今天,肇慶科潤真空將解釋真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別。
一、概念的區(qū)別。
1.真空鍍膜是一種在高真空下加熱金屬或非金屬材料,使其在被鍍膜件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面蒸發(fā)凝結(jié)形成薄膜的方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
2.光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面涂覆一層(或多層)金屬(或電介質(zhì))薄膜的工藝過程。光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了滿足減少或增加光反射、分束、分色、濾光和偏振的要求。常用的涂布方法有真空涂布(物理涂布之一)和化學(xué)涂布。
第二,原則的不同。
1.真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面。它以真空技術(shù)為基礎(chǔ),采用物理或化學(xué)方法,吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供了一種新的薄膜制備工藝。簡而言之,金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射,從而可以沉積在被涂覆的物體(稱為基底、襯底或基體)上
2.光學(xué)干涉廣泛應(yīng)用于薄膜光學(xué)。光學(xué)薄膜技術(shù)常用的方法是真空濺射鍍膜玻璃基片,一般用來控制基片對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損耗,提高成像質(zhì)量,涂覆一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為減反射膜或減反射膜。
隨著激光技術(shù)的發(fā)展,對薄膜的反射率和透射率有了不同的要求,這促進了多層高反射薄膜和寬帶抗反射薄膜的發(fā)展。對于各種應(yīng)用,高反射膜用于制造偏振反射膜、分色膜、發(fā)光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層上多次反射透射,形成多光束干涉。通過控制薄膜層的折射率和厚度,可以獲得不同的強度分布,這就是干涉涂層。
第三,方法和材料的區(qū)別。
1、真空鍍膜材料的方法:
(1)真空蒸發(fā):清潔待涂覆的基材,并將其放入涂覆室中。抽空后,將薄膜加熱到高溫,使蒸汽達(dá)到13.3帕左右,使蒸汽分子飛向襯底表面,凝結(jié)成薄膜。
(2)陰極濺射鍍膜:將待鍍膜基片對著陰極放置,向真空室通入惰性氣體(如氬氣),保持壓力在1.33~13.3帕左右,然后將陰極與2000伏DC電源連接,然后激發(fā)輝光放電。帶正電荷的氬離子撞擊陰極發(fā)射原子,濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。
(3)化學(xué)氣相沉積:通過選定的金屬化合物或有機化合物的熱分解獲得沉積薄膜的過程。
(4)離子鍍:本質(zhì)上,離子鍍是真空蒸發(fā)和陰極濺射的有機結(jié)合,兼具兩者的工藝特點。表6-9列出了各種涂層方法的優(yōu)缺點。
2.常見的光學(xué)涂層材料。
(1)氟化鎂:無色四方粉,純度高,能提高光學(xué)涂層的透光率,不開裂。
(2)二氧化硅:無色透明晶體,熔點高,硬度高,化學(xué)穩(wěn)定性好,純度高。可用于制備蒸發(fā)狀態(tài)好、無塌陷的高質(zhì)量Si02涂層。根據(jù)應(yīng)用要求,可分為紫外光、紅外光和可見光。
(3)氧化鋯:白色重晶態(tài),高折射率耐高溫,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,純度高。用于制備高質(zhì)量氧化鋯涂層時,無裂點。
第四,膜厚的差異。
真空鍍膜中金屬材料電鍍的薄膜厚度一般在3-5微米左右。光學(xué)鍍膜的膜厚測試可以通過在鍍膜機中部頂部安裝膜厚測試儀來完成。早期采用光控試驗?,F(xiàn)在一般用晶振測試鍍層厚度。不同的膜有不同的厚度。
以上內(nèi)容是真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別介紹,希望對大家有所幫助。真空鍍膜的過程很復(fù)雜,只是因為需要很高的真空度。光學(xué)涂層的涂層材料都是稀有金屬,隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,它們的需求可能會增加。肇慶科潤真空鍍膜設(shè)備有限公司是一家真空鍍膜設(shè)備,玻璃深加工機械設(shè)備制造及相關(guān)產(chǎn)品鍍膜的科技型多元化公司。如有需要,請聯(lián)系科潤真空設(shè)備有限公司!