空鍍膜設(shè)備廠家的真空鍍膜和光學(xué)鍍膜有什么區(qū)別？

真空鍍膜是一種用物理方法生產(chǎn)薄膜材料的技術(shù)。真空室中材料的原子與熱源隔離，并撞擊待鍍物體的表面。這項(xiàng)技術(shù)*首先用于生產(chǎn)光學(xué)透鏡，如海洋望遠(yuǎn)鏡透鏡。后來(lái)擴(kuò)展到其他功能薄膜，如記錄鍍鋁、裝飾涂層、材料表面改性等。比如表殼鍍仿金，然后機(jī)床鍍膜改變加工硬度。真空鍍膜主要是利用輝光放電將氬(Ar)離子打到靶面上。

原子被噴射并沉積在襯底的表面上以形成薄膜。濺射薄膜的性能和均勻性優(yōu)于蒸發(fā)薄膜，但鍍膜速度比蒸發(fā)薄膜慢得多。幾乎所有的新型濺射設(shè)備都是利用強(qiáng)大的磁鐵使電子螺旋加速靶周圍的氬電離，增加了靶與氬離子碰撞的可能性，提高了濺射速率。一般來(lái)說(shuō)，大多數(shù)金屬涂層使用DC濺射，而非導(dǎo)電陶瓷磁性材料使用射頻交流濺射?；驹硎抢谜婵蛰x光放電將氬(氬)離子打在靶面上。隨著材料的構(gòu)建，等離子體中的陽(yáng)離子將向陰極表面加速。這種撞擊會(huì)導(dǎo)致靶飛出并沉積在基底上形成薄膜。

一般來(lái)說(shuō)，濺射鍍膜有幾個(gè)特點(diǎn):金屬、合金或絕緣體可以制成薄膜材料。在適當(dāng)?shù)脑O(shè)置條件下，相同成分的薄膜可以由多個(gè)復(fù)雜目標(biāo)制成。通過(guò)在放電氣氛中添加氧氣或其他活性氣體，可以產(chǎn)生目標(biāo)材料和氣體分子的混合物或化合物?？梢钥刂瓢休斎腚娏骱蜑R射時(shí)間，并且可以容易地獲得高精度的膜厚。與其他工藝相比，有利于生產(chǎn)大面積均勻薄膜。濺射粒子不受重力影響，靶和襯底的位置可以自由排列?；迮c薄膜之間的粘合強(qiáng)度是普通氣相沉積薄膜的10倍以上，并且由于濺射粒子能量高，表面會(huì)繼續(xù)在成膜表面擴(kuò)散，得到堅(jiān)硬致密的表面膜。同時(shí)，這種高能量使襯底具有較低的溫度。晶體膜可以在一定溫度下獲得。薄膜的初始成核密度非常高，可以產(chǎn)生10納米以下的非常薄的連續(xù)薄膜。長(zhǎng)目標(biāo)壽命，長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)自動(dòng)化生產(chǎn)。通過(guò)機(jī)器的特殊設(shè)計(jì)，目標(biāo)可以制成各種形狀，以實(shí)現(xiàn)更好的控制和高效生產(chǎn)。