真空鍍膜機磁控濺射表層的鍍膜加工工藝，早已牽涉到每個領(lǐng)域。在電子光學(xué)領(lǐng)域中，許多電子產(chǎn)品全是根據(jù)電子光學(xué)磁控濺射技術(shù)性來開展表層的鍍膜的，為其更改性能指標(biāo)及主要用途。裝飾設(shè)計領(lǐng)域，大家身旁用的衛(wèi)浴潔具、廚具、裝飾物等商品，也是有根據(jù)磁控濺射技術(shù)性的鑲上一層很薄的膜層，為其更改美觀大方度和特性。也有日常日常生活應(yīng)用的軟性商品，真空泵領(lǐng)域通稱倒絲機商品，絕大多數(shù)商品也會運用到磁控濺射表層的鍍膜加工工藝。也有其他的各個領(lǐng)域，就不會再一一列舉。對表層的鍍膜相關(guān)產(chǎn)品有稍稍觸碰的人，基本上都是有聽聞過真空泵磁控濺射表層的鍍膜技術(shù)性，顯而易見磁控濺射表層的鍍膜技術(shù)性在具體運用中的占有的份量。那麼磁控濺射表層的鍍膜方法有方法，有什么呢？

直流濺射(DCMagnetronSputtering)、射頻濺射(RFMagnetronSputtering)、單脈沖磁控濺射(PulsedMagnetronSputtering)和高頻磁控濺射(MediumFre2quencyMagnetronSputtering)

反應(yīng)濺射是在磁控濺射系統(tǒng)軟件里的稀有氣體氛圍中，進入一定占比的反映汽體，一般作為反映汽體的主要是O2和N2。

直流濺射方式 用以被磁控濺射原材料為導(dǎo)電性原材料的磁控濺射和反應(yīng)濺射表層的鍍膜中，其工藝技術(shù)簡易，有較高的磁控濺射速度。

高頻溝通交流磁控濺射在單獨負(fù)極靶系統(tǒng)軟件中，與單脈沖磁控濺射有一樣的釋放出來正電荷、避免打弧功效。高頻溝通交流磁控濺射技術(shù)性還運用于雙生靶(Twin2Mag)磁控濺射系統(tǒng)軟件中，高頻溝通交流雙生靶磁控濺射是將高頻交流電的2個輸出端，各自收到合閉電磁場非均衡磁控濺射雙靶的分別負(fù)極上，因此在雙靶上各自得到相位差反過來的交流電流，一對磁控濺射靶則更替變成負(fù)極和陽極氧化。雙生靶磁控濺射技術(shù)性進一步提高磁控濺射運作的可靠性，可防止被極毒的靶面造成正電荷累積，造成靶面電孤點火及其陽極氧化消退的難題，磁控濺射速度高，為化學(xué)物質(zhì)塑料薄膜的現(xiàn)代化大規(guī)模生產(chǎn)打下基礎(chǔ)。